大摩:臺(tái)積電有望調(diào)高財(cái)測(cè) 預(yù)期今年?duì)I收年增率上調(diào)至35%
關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 營(yíng)收增長(zhǎng) 資本支出 AI半導(dǎo)體 法說(shuō)會(huì)
摩根士丹利證券(大摩)在最新釋出的臺(tái)積電個(gè)股報(bào)告中預(yù)期,4月16日臺(tái)積電法說(shuō)會(huì)可能上調(diào)2026年?duì)I收增長(zhǎng)率,從接近30%調(diào)高到約35%,2026–2028年三年期資本支出展望,總額也將升至約2000億美元。
大摩重申對(duì)于臺(tái)積電、家登與萬(wàn)潤(rùn)優(yōu)于大盤”評(píng)級(jí)。臺(tái)積電ADR 4月15日美股早盤平盤附近震蕩。
這是大摩本月以來(lái)第三份臺(tái)積電報(bào)告,主要基于臺(tái)積電4月10日公布的第一季度營(yíng)收超出預(yù)期,從原本季增4%上修到8%。依據(jù)大摩的晶圓廠產(chǎn)能利用率分析,臺(tái)積電第二季度營(yíng)收可望季增5-10%。
基于臺(tái)積電上半年可望交出不錯(cuò)的營(yíng)收,大摩不排除臺(tái)積電在今日法說(shuō)時(shí)上調(diào)全年預(yù)估營(yíng)收。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),AI相關(guān)半導(dǎo)體(如XPU、網(wǎng)通、CPU等)需求強(qiáng)勁,足以抵消智能手機(jī)半導(dǎo)體的疲弱。
大摩認(rèn)為,臺(tái)積電資本支出將是法說(shuō)新焦點(diǎn)。資本支出可能是臺(tái)積電未來(lái)三到五年增長(zhǎng)率的強(qiáng)勁指標(biāo),對(duì)全球半導(dǎo)體設(shè)備股意義重大。大摩預(yù)期,臺(tái)積電將在法說(shuō)上提出未來(lái)三年資本支出展望,總額達(dá)2000億美元,包括2026年的550億美元、2027年的650億美元、2028年的800億美元。
大摩上周才提出臺(tái)積電法說(shuō)三情境,當(dāng)時(shí)預(yù)估臺(tái)積電未來(lái)三年資本支出總額為1900億美元,與最新預(yù)估版本差異在于,上周預(yù)估2028年資本支出達(dá)700億美元。大摩目前認(rèn)為,臺(tái)積電今日法說(shuō)可能從大摩的基準(zhǔn)情境邁向樂(lè)觀情境。
大摩之前建議在臺(tái)積電法說(shuō)前逢低累積部位,因?yàn)榇竽τ^察到,臺(tái)積電正在提高2027年極紫外光(EUV)的訂單,以應(yīng)對(duì)更強(qiáng)勁的3nm需求,這些需求主要來(lái)自高頻寬存儲(chǔ)(HBM)底層晶粒、LPU、CPU等。
大摩也提到,臺(tái)積電是否應(yīng)該將計(jì)算晶粒提供給英特爾進(jìn)行EMIB?T封裝,成為辯論重點(diǎn)。大摩已看到一些臺(tái)積電客戶正在評(píng)估英特爾的EMIB-T,因?yàn)镃oWoS最多只能支持9.7倍光罩尺寸且產(chǎn)能吃緊,但EMIB-T能支持更大芯片尺寸且成本也更低。不過(guò),大摩認(rèn)為,臺(tái)積電仍會(huì)嘗試通過(guò)不同技術(shù)擴(kuò)展封裝尺寸,以滿足客戶需求。
大摩看好臺(tái)積電的同時(shí),也看多臺(tái)積電供應(yīng)鏈兩家廠商,觀察到家登的EUV光罩盒需求持續(xù)增加,且萬(wàn)潤(rùn)擴(kuò)張3D IC封裝產(chǎn)能。大摩去年底已將家登目標(biāo)價(jià)從340元新臺(tái)幣上調(diào)到380元新臺(tái)幣,上周則將萬(wàn)潤(rùn)目標(biāo)價(jià)大幅上調(diào)86%到1280元新臺(tái)幣。
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