- ASML定調(diào)2027產(chǎn)能翻倍:EUV光刻機不再是掣肘
- 美國議員擬推“MATCH法案”,收緊對華DUV光刻機出口
- 氦原子束光刻機創(chuàng)企Lace獲4000萬美元A輪融資,光束寬度僅0.1nm
- 突發(fā)!昔日霸主巨額虧損,光刻機業(yè)務徹底潰敗
- 突破封鎖!俄羅斯自研350納米光刻機正式入列
- 2026年全球光刻機銷量及市場規(guī)模預測分析(圖)
- ASML新一代High-NA EUV光刻機達量產(chǎn)標準,單臺造價4億美元
- 1.1億!上海微電子中標一臺步進掃描式光刻機
- 劍指14A工藝!英特爾率先部署ASML TWINSCAN EXE:5200B光刻機
- 國產(chǎn)設備新突破!芯上微裝首臺350nm步進光刻機正式發(fā)運