- ASML定調(diào)2027產(chǎn)能翻倍：EUV光刻機不再是掣肘
- 美國議員擬推“MATCH法案”，收緊對華DUV光刻機出口
- 氦原子束光刻機創(chuàng)企Lace獲4000萬美元A輪融資，光束寬度僅0.1nm
- 突發(fā)！昔日霸主巨額虧損，光刻機業(yè)務(wù)徹底潰敗
- 突破封鎖！俄羅斯自研350納米光刻機正式入列
- 2026年全球光刻機銷量及市場規(guī)模預(yù)測分析（圖）
- ASML新一代High-NA EUV光刻機達(dá)量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，單臺造價4億美元
- 工信部部長李樂成：裝光刻膠的玻璃瓶已在產(chǎn)線上試用，反應(yīng)很好
- 1.1億！上海微電子中標(biāo)一臺步進(jìn)掃描式光刻機
- 劍指14A工藝！英特爾率先部署ASML TWINSCAN EXE:5200B光刻機
