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長(zhǎng)江存儲(chǔ)三期項(xiàng)目提速,2026下半年量產(chǎn)

2026-02-02 來(lái)源:電子工程專輯
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關(guān)鍵詞: 長(zhǎng)江存儲(chǔ) NAND Flash 三期晶圓廠

在全球存儲(chǔ)芯片持續(xù)緊缺、AI驅(qū)動(dòng)需求激增的背景下,中國(guó)領(lǐng)先的NAND Flash制造商——長(zhǎng)江存儲(chǔ)(YMTC)正以驚人速度推進(jìn)其武漢三期晶圓廠建設(shè)。

據(jù)業(yè)內(nèi)最新消息,原定于2027年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的三期項(xiàng)目,有望提前至2026年下半年正式啟動(dòng),比原計(jì)劃整整提前一年。

長(zhǎng)江存儲(chǔ)三期項(xiàng)目于2025年9月正式動(dòng)工,由長(zhǎng)江存儲(chǔ)與湖北國(guó)資聯(lián)合出資成立的“長(zhǎng)存三期(武漢)集成電路有限責(zé)任公司”主導(dǎo),注冊(cè)資本高達(dá)207.2億元。項(xiàng)目自啟動(dòng)以來(lái)進(jìn)展迅猛:截至2026年初,工地已進(jìn)入潔凈廠房設(shè)備安裝階段,生產(chǎn)設(shè)備采購(gòu)與產(chǎn)線調(diào)試同步展開(kāi)。從破土動(dòng)工到設(shè)備搬入僅用一年多時(shí)間,在半導(dǎo)體行業(yè)極為罕見(jiàn),凸顯其“邊建廠、邊投產(chǎn)”的高效策略。

此次提速背后,是長(zhǎng)江存儲(chǔ)對(duì)全球NAND市場(chǎng)“超級(jí)周期”的對(duì)應(yīng)布局。當(dāng)前,受AI服務(wù)器、數(shù)據(jù)中心及消費(fèi)電子復(fù)蘇推動(dòng),NAND Flash供不應(yīng)求。然而,三星、SK海力士、美光等國(guó)際大廠正將產(chǎn)能優(yōu)先投向高利潤(rùn)的HBM和高端DRAM,導(dǎo)致智能手機(jī)、PC等傳統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域供應(yīng)緊張。這為長(zhǎng)江存儲(chǔ)提供了寶貴的市場(chǎng)窗口——憑借快速釋放的新增產(chǎn)能,可迅速填補(bǔ)中端市場(chǎng)空缺,擴(kuò)大客戶覆蓋。

數(shù)據(jù)顯示,長(zhǎng)江存儲(chǔ)全球市占率已從2024年的9%躍升至2025年第三季度的13%,首次突破10%大關(guān)。若三期項(xiàng)目如期在2026年下半年量產(chǎn),其市場(chǎng)份額有望沖擊15%以上,進(jìn)一步逼近全球前四。

尤為關(guān)鍵的是,長(zhǎng)江存儲(chǔ)的增長(zhǎng)并非依賴低價(jià)傾銷,而是建立在扎實(shí)的技術(shù)創(chuàng)新之上。其獨(dú)創(chuàng)的Xtacking架構(gòu)已迭代至3.0甚至4.0版本,在3D NAND堆疊層數(shù)、讀寫(xiě)速度和能效比方面達(dá)到國(guó)際一線水平。目前,其產(chǎn)品良率與可靠性獲得客戶高度認(rèn)可,旗下消費(fèi)品牌“致態(tài)”連續(xù)兩年蟬聯(lián)京東SSD品類雙十一大促銷量與GMV冠軍,印證了市場(chǎng)對(duì)其品質(zhì)的信任。

在知識(shí)產(chǎn)權(quán)方面,長(zhǎng)江存儲(chǔ)已積累超11,000項(xiàng)專利,其中絕大多數(shù)為發(fā)明專利。更值得注意的是,連三星電子都曾向其購(gòu)買(mǎi)用于400層以上3D NAND制造的混合鍵合(Hybrid Bonding)相關(guān)專利,足見(jiàn)其技術(shù)影響力已獲國(guó)際巨頭認(rèn)可。

值得強(qiáng)調(diào)的是,這一切成就均是在美國(guó)將其列入實(shí)體清單、嚴(yán)格限制美系設(shè)備與材料出口的嚴(yán)峻環(huán)境下取得的。長(zhǎng)江存儲(chǔ)通過(guò)構(gòu)建“去美化”產(chǎn)線,大量采用國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、清洗機(jī)等,成功實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈自主可控。這也得益于近年來(lái)中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備與材料企業(yè)的快速進(jìn)步,以及NAND Flash本身對(duì)極紫外光刻(EUV)等尖端制程依賴較低的特性。