三星3nm以下制程擴張計劃進展順利，其2nm GAA良率預(yù)計達到60%，這讓這家韓國晶圓代工廠信心十足，得以在其美國泰勒工廠進行下一代光刻技術(shù)的試生產(chǎn)。該工廠最初是為4nm晶圓制造而建，此前有報道稱，三星已將其海外工廠改造為2nm制程中心，使其在與臺積電的競爭中占據(jù)優(yōu)勢。當(dāng)前，臺積電限制其最先進2nm技術(shù)進入美國市場。

據(jù)報道，三星泰勒工廠的部分區(qū)域已獲得臨時占用許可證（TCO），允許專業(yè)工程師進駐現(xiàn)場并加快生產(chǎn)運營。此前有報道稱，測試生產(chǎn)于3月啟動，屆時有超過7000名員工駐守現(xiàn)場，助力公司實現(xiàn)計劃。據(jù)悉，為大規(guī)模生產(chǎn)2nm GAA晶圓提供先進EUV光刻機的荷蘭制造商ASML也已派出團隊協(xié)助三星工人進行設(shè)備部署。

假設(shè)試生產(chǎn)成功，泰勒工廠將于2026年開始運營，預(yù)計將于2027年全面投產(chǎn)。三星計劃將泰勒工廠升級至2nm GAA工藝，該工藝在技術(shù)改進方面遠勝于傳統(tǒng)的4nm光刻技術(shù)。三星也利用這項技術(shù)生產(chǎn)Exynos 2600處理器。目前，三星的2nm GAA工藝在美國擁有眾多客戶，其中特斯拉是其最主要的客戶。

此外，三星還獲得了來自美國無晶圓廠公司和云服務(wù)提供商的芯片訂單，進一步鞏固了其在美國市場的地位。由于臺積電的3nm產(chǎn)能受到嚴(yán)重限制，其無法滿足市場需求，這使得三星成為眾多客戶的替代方案。三星計劃通過專注于提高良率來降低晶圓成本，并或在不久的將來通過向客戶提供折扣價進一步增強與臺積電的競爭。