“光刻機(jī)”被稱(chēng)之為傳統(tǒng)芯片制造的工業(yè)母機(jī)，因?yàn)樗夭豢缮伲瑫r(shí)光刻機(jī)的好壞，精度，決定了芯片的精度、良率等等。

不過(guò)大家也清楚，光刻機(jī)目前全球只有4家廠商能夠生產(chǎn)，分別是ASML、尼康、佳能、上海微電子，ASML是荷蘭企業(yè)，尼康、佳能是日本企業(yè)，而上海微電子是中國(guó)企業(yè)。

如上圖所示，這是4大廠商的光刻機(jī)精度。其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機(jī)，只有ASML能夠生產(chǎn)。

而尼康能搞定高端的7－28nm的AiF＋浸潤(rùn)式光刻機(jī)，但佳能、上海微電子卻還停留在90nm，只能生產(chǎn)低端的光刻機(jī)。

不過(guò)也有人稱(chēng)，光刻機(jī)所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻機(jī)可以通過(guò)多次曝光，提升分辨率的，那么問(wèn)題就來(lái)了，上海微電子的90nm光刻機(jī)，最多能生產(chǎn)多少納米的芯片？

據(jù)資料顯示，目前上海微電子的90nm的光刻機(jī)，主要用于電源管理芯片、LCD驅(qū)動(dòng)芯片、WiFI芯片、射頻芯片、各類(lèi)數(shù)模混合電路等。

而在精度方面，90nm肯定沒(méi)問(wèn)題的，同時(shí)經(jīng)過(guò)兩次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以達(dá)到22nm左右的水平。

那么能不能四次曝光，五次曝光，將精度提升上去？事實(shí)上，在實(shí)際使用中，2次曝光就已經(jīng)很厲害了，像ASML等的光刻機(jī) ，大多也只是進(jìn)行2次曝光。

因?yàn)閷?shí)踐表示，3次曝光會(huì)導(dǎo)致良率大幅度下降，4、5次良率可能會(huì)低到?jīng)]法想象，晶圓廠們的成本高到?jīng)]法承受，不如買(mǎi)一臺(tái)更高級(jí)光刻機(jī)，成本還低一些。

所以，目前國(guó)內(nèi)在努力的研發(fā)28nm的光刻機(jī)，這樣經(jīng)過(guò)兩次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工藝，那最好還是期待EUV光刻機(jī)，用28nm的來(lái)曝光三次，良率沒(méi)法看。

不過(guò)，在整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，流傳說(shuō)一句話(huà)，那就是“靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠”。

所以像光刻機(jī)這種東西，只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人，雖然EUV光刻機(jī)非常難，但也不得不去攻克。